lee0715 wrote:
我是覺得中國這近20...(恕刪)
光刻機與刻蝕機達世界先進水平 為何還說中國晶片業依舊前路艱辛
原文網址：https://kknews.cc/zh-tw/military/6qzr3el.html
節錄原文
中微半導體設備(上海)有限公司自主研製的5納米等離子體刻蝕機經台積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。
等離子蝕刻機 跟 極紫外光刻機 不同的技術路線 可以互相輔助也可獨立運用
台積電已經將融合運用了
台積電這次表態挺華為
也是因為很多核心技術已經是來自中國了
3nm 5nm 7nm晶片製造的難度應該很快就被中國突破
